說明：
鉻靶主要應(yīng)用于半導體、低輻射玻璃、裝飾和功能性膜層等領(lǐng)域的真空鍍膜。
元素符號 : Cr
純度 : 99.5%-99.95%
形狀 : 平面靶; 旋轉(zhuǎn)靶
外觀 : 銀色金屬
理論密度 : 7.2g/cm3
尺寸 : 按需定做
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